2008年7月11日
株式会社アルネアラボラトリ
トピックス
HOME > 新着情報



「超高速アブレーション微細加工用の超小型高強度ピコ秒パルスレーザーの開発」の
産学共同シーズイノベーション化事業「顕在化ステージ」採択決定について





 株式会社アルネアラボラトリ と 国立大学法人 千葉大学の 尾松孝茂 教授は、「超高速アブレーション微細加工用の超小型高強度ピコ秒パルスレーザーの開発」の共同研究課題が、 独立行政法人 科学技術振興機構 ( JST ) が実施している、 産学共同シーズイノベーション化事業 「顕在化ステージ」 平成20年度(第1回) に採択されました。



■ 千葉大学 情報画像工学科 尾松孝茂 研究室  Link 

以上





株式会社アルネアラボラトリ 
〒154-0005 東京都世田谷区三宿2-4-7 YKビル2階 
TEL:03-5431-3530 FAX:03-5431-3531



Copyright ©2008 Alnair Laboratories Corp. All rights reserved.